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真空懸浮熔煉爐

簡(jiǎn)要描述：真空懸浮爐真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無(wú)接觸冶煉，干凈無(wú)污染。冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，真空懸浮爐專(zhuān)門(mén)應用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。真空懸浮爐采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。采用兩級分子泵控制系統真空度高，可達5.0*10-5pa。

  • 更新時(shí)間：2024-05-08
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
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品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域化工,能源,冶金,航天,綜合
　　一、真空懸浮熔煉爐設備用途
 
　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和高*材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。
 
　　二、真空懸浮熔煉爐設備特點(diǎn)
 
　　1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無(wú)接觸冶煉，干凈無(wú)污染。
 
　　2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專(zhuān)門(mén)應用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
 
　　3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
 
　　4·采用兩級分子泵控制系統真空度高，可達5.0*10-5pa。
 
　　三、主要技術(shù)參數
 
　　1、額定功率：65Kw
 
　　2、容量(以鈦計)：0.25Kg
 
　　3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
 
　　4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

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